薬液用20nm液中パーティクルカウンタ: Chem™ 20
可測粒径: 20-100 nm / 流量: 35 mLPM
最先端の半導体製造に使用される高純度洗浄液の微粒子管理に対応した装置。さまざまな薬液、測定方法に対応可能。
Chem 20™専用シリンジサンプラ: SLS-20
対応粒径: 20-100 nm
Chem 20™液中パーティクルカウンタ専用のシリンジサンプラ。バッチ測定用。
シリンジ サンプリング システム: SLS
LiQuilaz® II S/E 搭載
純水または薬液中の微粒子測定用パーティクルカウンタを搭載したシリンジサンプリングシステム。
全量測定式液中パーティクルカウンタ: LiQuilaz® II S/Eシリーズ
可測粒径: 0.2–20 µm (S) / 1.5–125 µm (E)
プロセス用薬液および超純水のインライン・モニタリング用、全量測定装置。
液中パーティクルカウンタ: HSLIS eシリーズ
可測粒径: 0.1-1.0 µm / 流量: 100-300 mLPM
超純水および薬液のインライン・モニタリング用装置。
加圧サンプリングシステム: CLS-700 T
可測粒径: 0.2-20 μm / 流量: 50-80 mLPM
溶存ガス・気泡を含む薬液中の微粒子測定用加圧サンプリングシステム。