
超純水用20nm液中パーティクルカウンタ: Ultra DI® 20 Plus
可測粒径: 20-100 nm / 流量: 75 mLPM
最先端の半導体製造に使用される超純水の微粒子管理に対応した装置。冷却機構が安定した高精度測定を実現。
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可測粒径: 20-100 nm / 流量: 75 mLPM
最先端の半導体製造に使用される超純水の微粒子管理に対応した装置。冷却機構が安定した高精度測定を実現。
可測粒径: 50-200 nm / 流量: 1 LPM
最先端の超純水が求める微粒子管理に対応し、卓越した流量とサンプルボリュームが特長の装置。
LiQuilaz® II S/E 搭載
純水または薬液中の微粒子測定用パーティクルカウンタを搭載したシリンジサンプリングシステム。
可測粒径: 0.2–20 µm (S) / 1.5–125 µm (E)
プロセス用薬液および超純水のインライン・モニタリング用、全量測定装置。
可測粒径: 0.1-1.0 µm / 流量: 100-300 mLPM
超純水および薬液のインライン・モニタリング用装置。
純水用液中パーティクルカウンタ専用
脈動対策機構を備えた流量コントローラ。PMS製超純水用インライン測定装置に適応。