超純水用20nm液中パーティクルカウンタ: Ultra DI® 20 Plus
可測粒径: 20-100 nm / 流量: 75 mLPM
最先端の半導体製造に使用される超純水の微粒子管理に対応した装置。冷却機構が安定した高精度測定を実現。
薬液用20nm液中パーティクルカウンタ: Chem™ 20
可測粒径: 20-100 nm / 流量: 35 mLPM
最先端の半導体製造に使用される高純度洗浄液の微粒子管理に対応した装置。さまざまな薬液、測定方法に対応可能。
光遮へい型液中微粒子自動測定システム: APSS-2000
薬局方に適合 / 可測粒径: 1.5-125 μm
注射剤中の不溶性微粒子の粒径別粒子数の測定 、結果分析、レポート生成までをPC制御で自動的に連続実行。DI対応。
Chem 20™専用シリンジサンプラ: SLS-20
対応粒径: 20-100 nm
Chem 20™液中パーティクルカウンタ専用のシリンジサンプラ。バッチ測定用。
純水用50nm液中パーティクルカウンタ: Ultra DI® 50
可測粒径: 50-200 nm / 流量: 1 LPM
最先端の超純水が求める微粒子管理に対応し、卓越した流量とサンプルボリュームが特長の装置。
薬液用40nm液中パーティクルカウンタ: UltraChem® 40
可測粒径: 40-125 nm / 流量: 5 mLPM
独自の画像処理技術 NanoVision Technology® を搭載した超純水および薬液用インライン・モニタリング装置。
シリンジ サンプリング システム: SLS
UltraChem® 40 / LiQuilaz® II S/E 搭載
NanoVision Technology®を搭載することもできる超純水および薬液中の微粒子測定用バッチサンプリングシステム。
全量測定式液中パーティクルカウンタ: LiQuilaz® II S/Eシリーズ
可測粒径: 0.2–20 µm (S) / 1.5–125 µm (E)
プロセス用薬液および超純水のインライン・モニタリング用、全量測定装置。
純水·薬液用液中パーティクルカウンタ: HSLIS-M100e
可測粒径: 0.1-1.0 µm / 流量: 300 mLPM
超純水まおよび薬液のインライン・モニタリング用装置。
純水·薬液用液中パーティクルカウンタ: HSLIS-M65e
可測粒径: 65-200 nm / 流量: 100 mLPM
超純水および薬液のインライン・モニタリング用装置。
純水用液中パーティクルカウンタ: HSLIS-M50e
可測粒径: 50-200 nm / 流量: 100 mLPM
超純水のインライン・モニタリング用装置。
加圧サンプリングシステム: CLS-700 T
可測粒径: 0.2-20 μm / 流量: 50-80 mLPM
溶存ガス・気泡を含む薬液中の微粒子測定用加圧サンプリングシステム。
純水用流量コントローラ: FC-200/FC-100
純水用液中パーティクルカウンタ専用
脈動対策機構を備えた流量コントローラ。PMS製超純水用インライン測定装置に適応。
